Remote-Plasmaquelle

Beim trockenchemischen Plasmaätzen werden Radikale in einer Remote Plasmaquelle (RPS) erzeugt. Das Verfahren wird verwendet um Schäden an mikrostrukturierten Substraten aus Metallen wie Nickel, Kupfer oder Gold zu vermeiden. Beim trockenchemischen Plasmaätzen existiert das Plasma nur in der Quelle selbst, nicht aber im Reaktor. Ausschließlich Radikale verlassen die Quelle, weshalb sich Plasmaätzen für Prozesse eignet, bei denen Ionenbombardement und hohe thermische Belastungen vermieden werden müssen. Das Plasmaätzen ist ein rein chemischer Prozess. Die in der Quelle erzeugten Radikale reagieren mit den Oberflächenatomen des Substrats, bilden gasförmige Moleküle, die abgepumpt werden. Der große Vorteil dabei ist eine beschädigungsfreie, trockene und saubere Substratoberfläche.